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CMP拋光墊特性檢測方法

CMP拋光墊特性檢測方法

拋光墊在化學機械拋光過程中具有儲存和運輸拋光液、排除拋光過程產物、維持拋光所需的機械和化學環境等功能,拋光墊的性...

日期 2024-06-13   

一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料

一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料
一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料
一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料

1988年,美國商用機器公司(IBM)最先將CMP工藝應用于4MDRAM器件的制造。由于介電質、金屬材料等通過化學氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)工藝沉積在硅...

日期 2024-06-12   

CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩定性很重要!

CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩定性很重要!
CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩定性很重要!
CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩定性很重要!

拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進行機械研磨,以確保CMP過程中的高材料去除率。同時,磨料也是影響拋光液穩定性的重要因素之一。眾多磨料中,SiO2磨料因...

日期 2024-06-03   

機構:預計2024年半導體CMP耗材將增長6%

半導體材料市場信息的咨詢公司TECHCET預計2024年半導體CMP耗材將增長6%。金屬(Co、Mo、Ru)的CMP耗材呈現出迄今為止最大的增長率,在未來5年內增長94...

日期 2024-05-22   
CMP制程中的拋光墊

CMP制程中的拋光墊

本文介紹了CMP制程中的拋光墊的成分和作用。

日期 2024-05-10   

什么是減薄,與 CMP,磨削研磨又有什么不同?

什么是減薄,與 CMP,磨削研磨又有什么不同?
什么是減薄,與 CMP,磨削研磨又有什么不同?
什么是減薄,與 CMP,磨削研磨又有什么不同?

在我們的社群有問到“減薄工藝與CMP”方面的問題。表面去看,CMP也有減薄的作用,但其實不太一樣,另外還有一個磨削研磨的工藝,可能也會有所誤解。下面我們放在一起來聊一聊...

日期 2024-04-26   

金太陽:參股子公司半導體用CMP拋光液部分產品現已實現銷售

?金太陽12月27日在互動平臺表示,公司參股子公司東莞領航電子新材料有限公司主要產品包括了IC、硅晶圓、碳化硅用半導體拋光液,3C消費電子用精密拋光液和清洗液........

日期 2023-12-28   
莒南縣安特百特年產25000噸芯片CMP研磨液原料項目

莒南縣安特百特年產25000噸芯片CMP研磨液原料項目

?安特百特年產25000噸芯片CMP研磨液原料項目是由安集微電子科技(上海)股份有限公司與山東百特新材料有限公司...

日期 2023-12-27   

CMP拋光液中,單一磨料和混合磨料的應用差異

CMP拋光液中,單一磨料和混合磨料的應用差異
CMP拋光液中,單一磨料和混合磨料的應用差異
CMP拋光液中,單一磨料和混合磨料的應用差異

化學機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技術是超大規模集成電路制造工藝中的關鍵技術之一,能實現集成電路(IC)制造中晶圓表面全局平...

日期 2023-08-14   
半導體行業中的化學機械拋光(CMP)技術詳解

半導體行業中的化學機械拋光(CMP)技術詳解

20世紀60年代以前,半導體基片拋光還大都沿用機械拋光,得到的鏡面表面損傷是極其嚴重的。1965年Walsh和H...

日期 2023-08-02   
一只CMP研磨盤的自述:走進3M的匠心工藝

一只CMP研磨盤的自述:走進3M的匠心工藝

我是一枚CMP?研磨盤,來自3M。圓圓的身形里藏著滿滿的匠心工藝......

日期 2023-06-15   

60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成

60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成
60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成
60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成

CMP全稱為ChemicalMechanicalPolishing,即化學機械拋光,是機械削磨和化學腐蝕的組合技術,借助超微離子研磨作用以及漿料的化學腐蝕作用在被研磨的...

日期 2023-01-10   

昭和電工擬擴建CMP拋光液產能 增幅約20% 明年將陸續運營

據臺灣《經濟日報》援引日經亞洲今日報道,日本昭和電工將投資1.5億美元(200億日元)擴建其日本及中國臺灣工廠的半導體CMP拋光液產能,產能總增幅約為20%,新產能預計...

日期 2022-08-04   
鼎龍股份擬投2億成立材料研究院 CMP拋光墊全國領先半年營收增近四倍

鼎龍股份擬投2億成立材料研究院 CMP拋光墊全國領先半年營收增近四倍

致力于解決關鍵大賽道領域中各類核心進口替代類創新材料的“卡脖子”問題,鼎龍股份(300054.SZ)再度加碼研發...

日期 2021-09-17   

半導體材料CMP:集成電路制造關鍵制程

在晶圓制造材料中,CMP拋光材料占據了7%的市場。根據不同工藝制程和技術節點的要求,每一片晶圓在生產過程中都會經歷幾道甚至幾十道的CMP拋光工藝步驟。從0.35μm技術...

日期 2020-05-19   

凱盛科技擬建CMP拋光研磨材料項目和手機保護蓋板二期工程項目

10月10日,凱盛科技(600552.SH)發布公告表示,公司控股子公司安徽中創擬投資8481萬元在中創公司現有廠區內建設年產3500噸CMP(拋光研磨材料)項目生產線...

日期 2018-10-11   

打破國際壟斷在望!蘇州觀勝CMP制程半導體研磨墊項目開業

12月8日上午,蘇州觀勝半導體科技有限公司CMP制程半導體研磨墊項目開業典禮在張家港保稅區隆重舉行,標志著區鎮在半導體核心材料產業園項目建設上取得了實質性突破。市委常委...

日期 2017-12-11   

一種用于存儲器硬盤的CMP漿料及使用該漿料的拋光方法

申請號:201610247000.0申請日:2016.04.19國家/省市:中國江蘇(32)公開號:107304331A公開日:2017.10.31主分類號:C09G1...

日期 2017-11-15   

巴斯夫與贏創合作研發先進的化學機械研磨(CMP)液

贏創和巴斯夫同意合作發展二氧化鈰研磨液來制造計算機芯片。這項合作計劃將運用巴斯夫的化學專長、全球營銷和分銷能力,以及贏創在納米材料上的領先地位。研發出的研磨液預計將在2...

日期 2008-07-08   
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第六屆磨料磨具磨削展覽會暨2023金剛石產業大會

第六屆磨料磨具磨削展覽會暨2023金剛石...

2023年9月20日,時隔四年,期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業的快速發展,加強國內外企業的交流與合作。

中國人造金剛石誕生60周年

中國人造金剛石誕生60周年

1963年,我國成功研制出第一顆人造金剛石,經過幾代人的拼搏奮斗,實現了從無到有、從小到大、從弱到強的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國航空航天、國防軍工、機床機械等領域發揮著愈發重要的作用。不僅如此,隨著金剛石技術的選代,金剛石民用領域—培育鉆石迎來了自己的大爆發,中國占據了世界培育鉆石產量的80%以上,近幾年在國際上產生了巨大影響力。

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