CMP拋光液中常見的磨料材料有哪些？

1965年沃爾什和赫爾佐格提出二氧化硅溶膠和凝膠拋光的方法，自此，以二氧化硅漿料為代表的化學(xué)機械拋光（CMP）工藝就逐漸取代了機械拋光的主導(dǎo)地位；20世...

浙企攻破“卡脖子”技術(shù)斬獲首張CMP拋光液訂單

早上9時左右，敲開寧波潤平電子材料有限公司董事長惠宏業(yè)的辦公室時，他正接起當(dāng)天的第5個電話。電話接二連三，有催訂單的，也有談業(yè)務(wù)、匯報生產(chǎn)進度的。“抱歉...

CMP拋光液和拋光墊市場報告：2023年，全球市場規(guī)...

集成電路是現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系的核心樞紐，半導(dǎo)體材料作為集成電路產(chǎn)業(yè)的基石，在集成電路制造技術(shù)不斷升級和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新發(fā)展中扮演著重要角色。CMP拋光材料是集...

CMP工藝中的拋光液

根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，全球CMP材料成本占比中，拋光液用量最大，其中拋光液占比49%，拋光墊占比33%，合計占比82%，鉆石碟占比9%，清洗液占比5%。拋光...

鼎龍股份：已建成與CMP拋光液產(chǎn)線配套的萬噸級研磨粒...

鼎龍股份披露投資者關(guān)系活動記錄表顯示，研磨粒子是CMP拋光液的核心原材料，對拋光液產(chǎn)品品質(zhì)有較大影響，同時在拋光液的材料成本中占比較高。公司實現(xiàn)了研磨粒子的自主制備，有助于增強公司...

不同類型的硅片研磨和拋光工藝對拋光液的選擇有特定的要...

鼎龍股份拋光液獲千萬級訂單 業(yè)績回升上半年凈利預(yù)增超...

鼎龍股份（300054）(300054.SZ)再傳捷報。7月8日，鼎龍股份發(fā)布的公告顯示，其控股子公司武漢鼎澤新材料技術(shù)有限公司(下稱“鼎澤新材料”)仙桃園區(qū)生產(chǎn)的多晶硅拋光液及氮...

“卡脖子”技術(shù)：國內(nèi)拋光液行業(yè)如何突破？

CMP拋光液作為“卡脖子”技術(shù)之一，工藝復(fù)雜，種類繁多，根據(jù)工件的拋光需求不斷磨合得到合適的拋光液配方，是目前主要的技術(shù)難題。1拋光液：缺一不可化學(xué)機械...

納米金剛石拋光液：SiC超精拋光的“白月光”

SiC作為襯底材料，單晶SiC的表面粗糙度直接影響其在電子器元件中工作的效果與性能。為確保單晶SiC在半導(dǎo)體、襯底材料中的應(yīng)用的穩(wěn)定性，其表面粗糙度往往...

CMP拋光液中，SiO2磨料的分散穩(wěn)定性很重要！

拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進行機械研磨，以確保CMP過程中的高材料去除率。同時，磨料也是影響拋光液穩(wěn)定性的重要因素之一。眾多磨料中...